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플라즈마 클리닝 : 나노 스케일의 표면 불순물, 오염물 제거를 위해 에너지를 지닌 플라즈마를 발생시키는 공정을 의미한다.
플라즈마 클리닝 공정은 radical oxygen, hydrogen, fluorine, or chlorine species 와의 화학적 반응을 통해서, 또는 알르곤
이온과 같은 heavy ions에 의한 에너제틱 이온 스퍼터링에 의해 이뤄진다. 플라즈마 클리너 장비는 플라즈마 방전 공정을
통해 화학적으로 reactive radicals, energetic ions을 생성하는 장치이다. 플라즈마는 rf, microwave, DC glow discharge
등으로 생성된다.
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