미국 PIE Scientific사의 탁상형 진공 플라즈마 클리너, 원격 플라즈마 시스템

독일 Relyon Plasma사의 대기압 플라즈마: 핸디형, 반자동, 자동 시스템

 
 

 

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 - 대기압 플라즈마 모델 - 

Bullets033.gif PiezoBrush(PZ2, PZ2-i): 미니 핸디형 대기압 플라즈마, 수동/자동 모델

Bullets033.gif PlasmaTool: 고성능 공업용 핸디타입 대기압 플라즈마 처리기

Bullets033.gif PlasmaBrush(PB3, P300): 고성능 대기압 플라즈마 처리기, 수동/자동 모델

 

 

고휘도 이온 소스

 

Plasma cleaner

RF & microwave 방전 기술 기반의 플라즈마 이온 소스

 

 

Plasma ion source, LMIS, GFIS는 3가지의 일반적인 이온 소스들입니다.  LMIS와 GFIS는 뛰어난 소스 휘도를 나타냅니다.  그러므로
고해상도 이온 빔 영상과 마이크로 매칭 응용 분야에 폭 넓게 사용되고 있습니다.   그러나, LMIS, GFIS로부터의 총 전류는 플라즈마 이온
소스 보다 낮은 여러 증폭을 통해서 진행됩니다.   그러나, 크기가 50nm 보다 큰 경우는, 플라즈마 이온 소스가 LMIS, GFIS 보다 훨씬 높은
결과를 얻을 수 있습니다..

저희는 연구소 및 산업계에서 필요로 하는 고휘도의 주문형 플라즈마 이온 소스와 이온 광학의 디자인에 집중적인 연구를 수행해 왔습니다.
필요한 분들은 연락주세요.  플라즈마 이온 소스는 공정 가스를 변경하므로서 상이한 종류의 이온을 발생시킬 수 있습니다.  또한, 플라즈마
이온 소스들은 매스 필터(mass filter)와 함께 음 이온 스페시즈를 발생시킬 수 있습니다. 

 

고휘도 소형 플라즈마 이온 소스

향상된 이온 추출의 T 자형 플라즈마 이온 소스

 

Extracted argon and kryption current density
through 1mm aperture

Hydrogen positive ion current density
through 1mm aperture from mini ion source

 

Resist exposure image on ion projection system IPLM-02
in Berlin equiped with our low energy spread ion source

 Parallel patterning with low energy spread ion source on MMRL system in the Lawrence Berkeley National Laboratory

 

 

 

한국대리점 :  (주)인텍써플라이   서울시 강동구 양재대로 97길 24(2층) (우: 05375),  /  TEL) 02 487-8782  /  Fax) 02-487-8784