Plasma ion source, LMIS, GFIS는 3가지의 일반적인 이온 소스들입니다.  LMIS와 GFIS는 뛰어난 소스 휘도를 나타냅니다.  그러므로
고해상도 이온 빔 영상과 마이크로 매칭 응용 분야에 폭 넓게 사용되고 있습니다.   그러나, LMIS, GFIS로부터의 총 전류는 플라즈마 이온
소스 보다 낮은 여러 증폭을 통해서 진행됩니다.   크기가 50nm 보다 큰 경우는, 플라즈마 이온 소스가 LMIS, GFIS 보다 훨씬 높은 결과를
얻을 수 있습니다..

저희는 연구소 및 산업계에서 필요로 하는 고휘도의 주문형 플라즈마 이온 소스와 이온 광학의 디자인에 집중적인 연구를 수행해 왔습니다.
필요한 분들은 연락주세요.  플라즈마 이온 소스는 공정 가스 변경으로 상이한 종류의 이온을 발생시킬 수 있습니다.  또한, 플라즈마
이온 소스들은 매스 필터(mass filter)와 함께 음 이온 스페시스를 발생시킬 수 있습니다.